Puslaidininkinis kvarco žiedas

„Semixlab“ specializuojasi didelio grynumo kvarco komponentų, sukurtų naujos kartos puslaidininkių apdorojimo aplinkai, kūrime ir gamyboje. Tarp jų „Semixlab“ didelio grynumo kvarco žiedas atlieka labai svarbų vaidmenį keliuose priekinių plokštelių gamybos etapuose, kur matmenų tikslumas, cheminis švarumas ir terminis stabilumas tiesiogiai veikia proceso našumą ir įrenginio našumą.

Cheminio garų nusodinimo (CVD) sistemose, įskaitant LPCVD, PECVD ir aukštos temperatūros SiC arba Si epitaksijos reaktorius, kvarco žiedas atlieka struktūrinės ir funkcinės sąsajos tarp susceptoriaus ir reakcijos kameros vaidmenį. Jo pagrindinis vaidmuo yra izoliuoti reaktyviųjų dujų srautus, sumažinti parazitinį nusėdimą ant kameros sienelių ir stabilizuoti terminį profilį aplink plokštelę. Išskirtinis „Semixlab“ tiksliai poliruoto kvarco terminis vienodumas užtikrina vienodą plėvelės storį ir puikią paviršiaus kokybę visoje plokštelėje. Medžiagos optinį skaidrumą ir infraraudonųjų spindulių atspindėjimą taip pat galima pritaikyti, siekiant padidinti kaitinimo efektyvumą ir sumažinti temperatūros gradientus nusodinimo zonoje.

Plazminio ėsdinimo (sauso ėsdinimo) procesuose kvarco žiedas veikia kaip apsauginis barjeras nuo plazmos erozijos ir jonų bombardavimo, apsaugodamas kameros metalinius paviršius nuo užteršimo ir dalelių susidarymo. Mūsų didelio tankio sintetinis kvarcas, pagamintas laikantis griežtai kontroliuojamų priemaišų specifikacijų (<1 ppm metalinio užterštumo), išlaiko matmenų vientisumą net ir ilgai veikiant agresyviai fluoro ir chloro pagrindu pagamintai plazmai. Tai žymiai pailgina kameros komponentų tarnavimo laiką ir padeda palaikyti stabilų plazmos pasiskirstymą – svarbų ėsdinimo vienodumo ir CD (kritinių matmenų) kontrolės parametrą.

Oksidacijos ir difuzijos krosnyse „Semixlab“ kvarco žiedai veikia kaip tikslūs lygiavimo ir izoliacijos elementai, kurie palaiko plokštelių valtis ir apibrėžia proceso dujų srauto kelią. Jų itin mažas šiluminio plėtimosi koeficientas sumažina įtempimą pasikartojančių terminių ciklų metu, kai temperatūra viršija 1000 °C. Dėl to pagerėja proceso pakartojamumas, sumažėja defektų skaičius ir dalelių užteršimo rizika aukštos temperatūros oksidacijos ar legiruojančių medžiagų difuzijos etapuose.

Epitaksinio augimo procesuose, ypač SiC epitaksijoje, kvarco žiedas prisideda prie temperatūros vienodumo ir cheminės izoliacijos. Išdėstytas aplink grafitu arba SiC padengtą susceptorių, jis veikia kaip atspindintis ir sulaikantis komponentas, formuojantis dujų ribinį sluoksnį ir gerinantis legiruojančios medžiagos bei storio vienodumą visame plokštelės paviršiuje. Dėl didelio šiluminio atsparumo, cheminio inertiškumo ir optinio stabilumo „Semixlab“ kvarco žiedai išlaiko savo savybes net esant artėjančiai 1600 °C temperatūrai vandenilio prisotintoje atmosferoje.

Dėl dešimtmečius trukusios medžiagų mokslo patirties ir tikslaus gamybos proceso „Semixlab“ didelio grynumo kvarco žiedai tapo patikimu pasirinkimu tarp pasaulinių puslaidininkių gamintojų ir įrangos originalios įrangos gamintojų, siekiančių didesnio patikimumo, grynumo ir proceso stabilumo. Kiekvienas komponentas yra suprojektuotas pagal SEMI standartus, patikrintas ICP-MS elementų analize ir apdorojamas ISO sertifikuotose švariose gamybos aplinkose. Šios savybės užtikrina, kad „Semixlab“ kvarco žiedai užtikrintų nuoseklų našumą, sumažintų prastovas ir padėtų klientams pasiekti griežtesnę proceso kontrolę ir didesnį įrenginių našumą pažangioje puslaidininkių gamyboje.