Aukšto grynumo grafito minkštas veltinis

„Semixlab“ yra pirmaujanti didelio grynumo grafito minkšto veltinio gamintoja Kinijoje, daugiausia dėmesio skirianti aukštos kokybės šilumos izoliacijos sprendimų teikimui puslaidininkių, fotovoltinių ir aukštos temperatūros pramonės sritims. Šis produktas pagamintas iš importuotos didelio grynumo grafito žaliavos (priemaišų kiekis ≤0.1 %), specialiu procesu pagaminto iš pluošto tinklo struktūros ir pasižymi tokiomis pagrindinėmis savybėmis kaip itin mažas šilumos laidumas (≤0.25 W /m·K esant 1000 ℃ temperatūrai), atsparumas itin aukštai temperatūrai (nuolatinio naudojimo temperatūra 3000 ℃) ir cheminis inertiškumas, todėl tai ideali medžiaga tikslioms šilumos laukų sistemoms konstruoti.

Didelio grynumo grafito minkštasis veltinis yra pagrindinė izoliacinė medžiaga puslaidininkių ir fotovoltinių įrenginių šiluminio lauko sistemoms. Tiksliai supynus ir sudėjus didelio grynumo grafito pluoštus, susidaro porėta struktūra, pasižyminti mažu šilumos laidumu. Aukštos temperatūros aplinkoje (pvz., virš 800 ℃) jis žymiai sumažina šilumos nuostolius, atspindėdamas spinduliuojamą šilumą ir sumažindamas kietosios fazės šilumos perdavimo kelią.

Pagal žaliavų skirtumą produktai skirstomi į tris kategorijas:

PAN pagrindu pagamintas grafitinis minkštas veltinis: puikios mechaninės savybės, paprastas gamybos procesas, plačiai naudojamas konstrukcinėse atraminėse medžiagose.

Viskozės pagrindu pagamintas grafitinis minkštas veltinis: stiprus atsparumas dilimui, didelis techninis sudėtingumas, tinka aukštos temperatūros šilumos izoliacijai.

Minkštas grafitinis veltinis iš pikio: gausus žaliavų, didelis karbonizacijos našumas, tačiau rinkos pritaikymas siauras.

1. Puslaidininkių gamybos įranga

Monokristalio silicio auginimo sistema:

CZ metodo monokristalinėje krosnyje grafito šildytuvas ir kvarcinis tiglis yra apvyniojami, kad būtų galima tiksliai kontroliuoti lydalo temperatūros gradientą (ašinis temperatūros skirtumas ≤2 ℃/cm) ir užtikrinti monokristalio augimo greičio stabilumą.

Silicio karbido kristalų auginimo krosnis:

Naudojant PVT metodą, minkštas veltinis kaip šerdies izoliacinis sluoksnis gali padidinti ašinio šiluminio lauko vienodumą krosnyje 40 % ir sumažinti kristalų defektų dažnį iki <0.5/cm².

2. Fotovoltinės pramonės įranga

Polikristalinė luitų krosnis:

Modulinė surinkimo konstrukcija pagerina krosnies šiluminį efektyvumą iki 85 %, o tai yra 30 % energijos taupymas, palyginti su tradiciniu anglies pluošto veltiniu.

3. Aukštos temperatūros pramoninė įranga

Vakuuminės aukšto slėgio dujų gesinimo krosnies kaitinimo kameroje esančios šilumos izoliacijos sluoksnio gesinimo aušinimo greitis padidėja 20 %.

Dinaminė sandarinimo sistema vakuuminės sukepinimo krosnies sukepinimo zonoje sumažina argono dujų sunaudojimą 15 %.

Itin didelis grynumas: pelenai ≤500 ppm, 200 ppm, 20 ppm, galima pritaikyti.

Atsparumas itin aukštai temperatūrai: maksimali darbinė temperatūra 3000 ℃.

Atsparumas rūgščių ir šarmų korozijai: (pH 2-12), nulinis reaktyvumas. 

Techninio sprendimo pritaikymas: terminio lauko modeliavimas + medžiagų parinkimas ir jungčių projektavimas.

Skiriamieji pranašumai: 200 % didesnis atsparumas temperatūrai nei tradicinis anglies pluošto veltinys, 50 % mažesnis šilumos laidumas nei konkurentų grafito veltinio, palaiko dinaminę sandarinimo sistemos integraciją.